小さな光半導体デバイスで大きな社会貢献を。
光通信で使用される光半導体レーザ及びフォトダイオードの中核的設計開発＆生産拠点です。
主力製品はデータセンタやワイヤレスネットワーク用光送受信トランシーバに使用される直接変調方式レーザ DML: Directly Modulation Laser及び外部変調方式 レーザ EML: Electro-absorption Modulator integrated with DFB Laserです。市場のニーズに合わせ、CWDM、L-WDM等各種波長帯を取り揃えています。
仕事内容
- 光デバイス開発/製造に関するリソグラフィ工程のマネジメント業務
- 光デバイス製造工程における工程改善、歩留向上、生産不具合対応等の生産技術業務対応
- 光デバイス開発/製造に関する新規ウエハプロセス技術の開発
- 光デバイス製造工程能力改善に向けた新規導入ウエハプロセス装置の選定、提案および立ち上げ
ミッション
- 担当する光デバイス製造工程において、日々の工程改善、歩留向上、生産不具合対応等の生産技術業務及びチームのマネジメント業務に従事する。ウエハプロセス工程の歩留向上に向けて、積極的な改善内容の提案が期待される。特に、縮小投影型露光装置や電子線描画装置を使用した工程改善等の能力が要求される。
- メガデータセンタやAI/MLに必要不可欠である最先端の高速光デバイス開発に必要な新規ウエハプロセス技術を開発し、また新規生産装置の導入に向けた選定/提案と立ち上げを主導する。
必須の経験・スキル
-半導体光デバイスの開発または製造工程において、同業界経験が５年以上あること。かつウエハプロセス生産技術業務の担当経験が学部卒5年以上、修士卒で8年以上有ること。但し、博士卒についてはウエハプロセス生産技術業務経験の有無は問わない。
-英文でのメールやり取り、PPT資料作成、オンライン会議での英語での議論等に対応できる程度の英語能力を有ること。
‐化合物半導体ウエハプロセスにおいて、縮小投影型露光装置や電子線描画装置による工程改善およびウエハプロセス生産技術業務経験が要求される。
歓迎する経験
‐ウエット/ドライエッチング、酸化膜堆積、スパッタリング、メタル蒸着等の実務経験があれば尚良い。
‐リーダー職の経験があり、マネジメントスキルを有する方を歓迎。
| 職種 / 募集ポジション | リソグラフィー プロセスエンジニア |
|---|---|
| 雇用形態 | 正社員 |
| 給与 |
|
| 勤務地 | |
| 勤務時間 | 9:00-17:30（45分休憩） |
| 休日 | 完全週休2日、年間休日125日 |
| 福利厚生 | 財形貯蓄、カフェテリアプラン等 |
| 加入保険 | 社会保険完備 |
| 受動喫煙対策 | 屋内喫煙室あり |
| 定年 | 60歳定年、年収変更なし、昇給昇格対象、1年更新 |
| 会社名 | 日本ルメンタム株式会社 |
|---|---|
| 事業内容 | 通信用光半導体素子の研究開発・設計・製造・販売 |
| 設立 | 2000年9月 |
| 資本金 | 2億円 |
| 事業所 | 252-5250 神奈川県相模原市中央区小山4-1-55 |
| 従業員数 | 正社員２２０名 派遣・請負５００名前後 |
| 代表者 | 岩藤 泰典 （いわふじ やすのり） |
| 米国親会社Lumentumについて | Lumentum は、画期的なフォトニクスイノベーションを実現し、テクノロジーの飛躍的な進歩を可能にすることで、世界がつながり、創造し、交流する方法を変えていきます。 革新的なフォトニクス製品の幅広いポートフォリオによって、世界の通信ネットワーク全体における俊敏性、柔軟性、そしてスピードの向上を実現してきました。クラウドデータセンターで処理、蓄積されるデータ量は増加の一途をたどっていますが、Lumentum の製品が大きく貢献しています。ストリーミングビデオ、ゲーム機、マシンビジョンといった高帯域幅のアプリケーションに加え、新たな生成 AI ツールの出現に伴い、高帯域幅の需要は高まる一方です。 クラウド・データーセンター以外にも、キロワットクラスのファイバーレーザや超短パルス固体レーザをはじめとする高性能な産業用レーザも製造しております。これらのレーザは、自動車、太陽電池、ディスプレイ、半導体チップなど、厳格な規格に準拠する製品の精密製造に使用されます。 また、Lumentum は、モバイル機器だけでなく、自動運転、インキャビンドライバーモニタリング、高度なイメージング、その他の次世代アプリケーションで使用される大容量 3D センシングアプリケーション用の最新半導体レーザを提供してきた業界のパイオニアとして今後も社会に貢献していきます。 |
| 沿革 | 世界初の海底光ファイバ通信用レーザを1985年に実用化して以来、日本ルメンタムは常に最先端の光デバイスで豊かな情報通信社会の発展に貢献してきました。業界トップの性能へ挑戦し続ける革新的なアイデアと豊富な経験によって、市場で高いシェアを獲得するだけでなく、多くのお客様との協創的なコラボレーションによって業界をリードしています。 ■ 2020年 3月：800GE(ギガビットイーサ)向け半導体レーザを発表 ■ 2019 年 9月：世界最速の高温動作半導体レーザを発表 6月：社名を日本オクラロ株式会社から日本ルメンタム株式会社へ改称 ■ 2018 年 12月：Lumentumのグループ会社となる 9月：400GE向け変調器集積レーザを発表 ■ 2016 年 3月：現在トップシェアとなっている光通信用レーザを販売開始、100GEの普及に貢献 ■ 2013 年 横浜市から現在の相模原市へ事業所移転 ■ 2012 年 Oclaro Inc.と合併し日本オクラロ株式会社へ改称 ■ 2007 年 世界初の温度制御を必要としない変調器集積レーザを発売 ■ 2000 年 Opnext, Inc.を設立し株式会社日立製作所から独立 ■ 1998 年 革新的な10Gb/s変調器集積レーザの量産を開始 ■ 1990 年 世界初の1.55μm半導体多重量子井戸レーザの量産化 ■ 1982 年 世界初の大西洋横断海底光ファイバ通信で使用する半導体レーザを開発 ■ 1975 年 世界初の分布帰還型(DFB)型レーザの電流注入発振に成功 ■ 1974 年 世界初の埋込(BH)型レーザの室温連続発振に成功 |